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產(chǎn)品名稱：
頭孢唑林鈉注射液膠體磨
產(chǎn)品型號： GM2000/4更新時間： 2025-12-02描述：頭孢唑林鈉注射液膠體磨，頭孢唑林鈉注射液工藝要點在于使用的膠體磨的研磨性能，普通膠體磨轉(zhuǎn)速3000rpm，研磨出來的懸浮液顆粒較粗，靜置一段時間容易產(chǎn)生絮凝，影響藥效和使用，極大限制了頭孢唑林鈉注射液的推廣。
產(chǎn)品介紹
頭孢唑林鈉注射液膠體磨，頭孢唑林鈉注射液研磨機，頭孢唑林鈉膠體磨，醫(yī)藥注射液膠體磨
頭孢唑林鈉注射液工藝要點在于使用的膠體磨的研磨性能，普通膠體磨轉(zhuǎn)速3000rpm，研磨出來的懸浮液顆粒較粗，靜置一段時間容易產(chǎn)生絮凝，影響藥效和使用，極大限制了頭孢唑林鈉注射液的推廣。
(價格電議，劉，)
頭孢唑林鈉注射液膠體磨，上海思峻高剪切膠體磨GM2000系列轉(zhuǎn)速高達9000rpm，是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。GM2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。 經(jīng)過GM2000膠體磨研磨后的混懸液固體顆粒粒徑80%小于10UM，分布范圍極窄。
SGN膠體磨與國內(nèi)膠體磨的性能比較：
一、轉(zhuǎn)速和剪切速率：
SGN膠體磨，可選擇德國機械密封，轉(zhuǎn)速可以達到15000轉(zhuǎn)
F=23/0.7X1000=32857 S-1
F=40/0.7/X1000=57142 S-1
國內(nèi)膠體磨，可選擇機械密封一般3000轉(zhuǎn)，大約在14293-215440 S-1
通過轉(zhuǎn)速比較可知，這是乳粉碎研磨的重要因素，相當于前者是后者的2-3倍。
二、膠體磨頭和間距：
SGN膠體磨，可以選擇六種不同的模塊頭，實現(xiàn)多種功能，如三級乳化模塊，超高速模塊，GM膠體模塊，GMO膠體模塊，批次粉液液混合模塊，連續(xù)粉液混合模塊。
間距可調(diào)，可實現(xiàn)1-10微米小粒徑材料加工
國內(nèi)膠體磨，只有一種模塊頭，粒徑細度有限，100微米以下較困難，重復性差
三、機械密封：
SGN膠體磨，雙機械密封，易于清洗，將泄漏降至zui低，可24小時不停運轉(zhuǎn)
國內(nèi)膠體磨，單機械密封或軸封，泄漏故障率高，產(chǎn)品泄漏進入馬達，造成馬達燒毀
四、清洗：
SGN膠體磨，立式，皮帶驅(qū)動，易于維護，可有效保護馬達及齒輪箱，防止損壞,符合流體流動原理，具有GIP/SIP在線清洗，在線殺菌功能，無需拆卸，機器設計*，立式結(jié)構(gòu)符合流體原理，清洗更簡便
國內(nèi)膠體磨，臥式或立式(馬達一體式)，軸承部分受力較大，易于損壞，維護保養(yǎng)復雜，
通常情況，需要拆卸機器進行清洗
GM2000系列醫(yī)藥膠體磨的型號表：
| 型號 | 流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 馬達功率 KW | 出/入口連接 |
| GM2000/4 | 700 | 9，000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
| GM2000/5 | 3，000 | 6，000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
| GM2000/10 | 8，000 | 4，200 | 23 | 15 | DN50/DN50 |
| GM2000/20 | 20，000 | 2，850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
| GM2000/30 | 40，000 | 1，420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
| GM2000/50 | 80，000 | 1，100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
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GM2000系列醫(yī)藥膠體磨的特點：
?、俣ㄞD(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。
②齒列的深度：從開始的2.7mm 到末端的0.7mm，范圍比較大，范圍越大，處理的物料顆粒大小越廣。
③溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。
注：流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%
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